光刻胶（Photoresist）是在半导体制造过程中使用的一种重要材料。

它是一种可以通过光（例如紫外线）来改变其化学性质的材料，进而可以用来在硅片上形成微小的图案。

由于光刻胶的化学性质，对于存储和运输的条件要求的尤为苛刻。

温度控制：

光刻胶通常需要在冷藏环境中存储，大多数光刻胶需要在4°C至10°C之间的温度下存储。在这个温度范围内，光刻胶可以保持其性质稳定。

如果光刻胶的储存或运输温度过高，可能会对其化学性质产生不良影响，可能会出现以下几种情况：

物理性质改变：过高的温度可能会导致光刻胶的粘度降低。粘度是液体阻力的度量，关系到光刻胶的涂覆过程。如果粘度降低，可能会影响涂覆的均匀性和厚度。高温可能加速光刻胶中溶剂的挥发，导致固含量增加。这可能影响到光刻胶涂覆后的干燥速度，以及图案形成的质量。高温可能会破坏光刻胶中微粒的稳定状态，使其发生沉淀或聚集，影响涂覆过程的均匀性。

化学反应：光刻胶是由一系列复杂的化学物质组成的，过高的温度可能会引发一些预期之外的化学反应，影响光刻胶的性能。光刻胶中的一些单体或预聚物在高温下可能会加速聚合，导致光刻胶的粘度、固含量或光敏性发生变化。

光敏性变化：光刻胶中的光敏剂在高温下可能会加速降解，导致光敏性降低，影响曝光过程，这可能会影响到在硅片上形成图案的精度和复杂度。

保存期限缩短：过高的储存温度会加速光刻胶中各种化学反应的速度，导致光刻胶的性能下降，因此会缩短其有效保存时间。一般来说，许多光刻胶在推荐的储存条件（通常是4°C至10°C）下，有效期可以达到一年或更长。但如果储存温度过高（比如超过30°C），保存时间可能会大幅缩短，可能只有几个月，甚至更短。

避光处理

光刻胶对光，尤其是紫外线非常敏感。暴露在光线中可能会引发光刻胶的光化学反应，使得其性质发生改变，因此在储存和运输过程中，需要对光刻胶做好避光处理。

在储存和运输光刻胶的过程中，可以使用不透光的材料进行包装，例如不透光的塑料瓶或者金属罐。这可以有效阻挡光线对光刻胶的影响。将光刻胶存储在无窗或者窗户有遮光窗帘的室内环境，避免光线直接照射到光刻胶。在运输过程中，也可以使用遮光的运输工具。在使用过程中，尽量减少光刻胶暴露在光线下的时间。在不使用时，立即将光刻胶放回遮光的储存环境。

运输规定：

光刻胶作为一种化学品，在运输过程中的确需要遵守相关的危险品运输规定。根据国际危险品运输法规，所有的危险品都需要被正确地分类并贴上相应的标签，以表明其危险性质。运输危险品需要有相应的运输文档，包括安全数据表（SDS）和危险品运输声明。危险品的运输工具需要有相应的安全设备，例如消防器材。某些危险品可能还有特定的运输路线要求。参与危险品运输的人员需要接受相应的培训，了解如何安全地处理危险品。