医用保冷柜150L公司说明--
福意联公司以更高的产品和服务,赢得客户优良大的满意为,依靠优良的现代企业管理不断深化企业内部改革,优良推行质量保证体系。提高产量,发扬“做事以善为先,经营有章可循”的理念,坚持“诚信为本”方针,以自己品牌从中国走向。
医用保冷柜150L产品说明--
福意联根据洁净手术室规范量身制造优良产品,完全按标准精工制作,替代国产。埋入墙内式,为I级手术室产品。有效减低手术室低体温症的发生,使手术历程中利用的盐水、药品及保持在37度适合人体的温度。维护机体内整体平衡起到重要作用!
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手术室保温柜和保冷柜使用说明
手术室保温柜
设置温度37-80度用于加温液体药品(生理盐水、冲洗液、造影剂、透析液、B超液)和被服被褥等。
手术室保冷柜
温度设置4度用于生物冰箱试剂,,制品等储存。
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医用保冷柜150L产品参数:
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产品型号 容积大小 温度范围 外型尺寸
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低配手术室保温保冷柜
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型号:FYL-YS-50LK 50L 温度:4~38℃ 外型尺寸:430*488*535
型号:FYL-YS-100L 100L 温度:4~38℃ 外型尺寸:480*490*840
型号:FYL-YS-138L 138L 温度:4~38℃ 外型尺寸:540*550*840
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常规手术室保温保冷柜
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型号:FYL-YS-150L 150L 温度:2~48℃ 外型尺寸:595*570*865
型号:FYL-YS-230L 230L 温度:2~48℃ 外型尺寸:595*590*1215
型号:FYL-YS-280L 280L 温度:2~48℃ 外型尺寸:595*570*1445
型号:FYL-YS-310L 310L 温度:2~48℃ 外型尺寸:595*695*1315
型号:FYL-YS-430L 430L 温度:2~48℃ 外型尺寸:595*680*1805
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高配手术室保温
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型号:FYL-YS-151L 150L 温度:0~100℃ 外型尺寸:595*565*860
型号:FYL-YS-281L 280L 温度:0~100℃ 外型尺寸:595*565*1440
型号:FYL-YS-431L 430L 温度:0~100℃ 外型尺寸:595*675*1795
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【型 号】FYL-YS-138L
【输入电压】AC220V
【制冷功率】85W
【加热功率】170W
【恒定温度】4-38℃
【净 重】40kg
【外形尺寸】540x545x833
【容 积】138L
【产品颜色】蓝白色
1.内置微电脑数控系统、温度数字显示、触摸式LED液晶显示屏、温度在4~38度之间任意调控且恒定。
2.优良温度控制系统及制冷、加热系统的合理匹配,在-10℃~38℃环境温度下仍能够保持箱内温度均匀稳定。
3.无噪音设计:噪音低于39dB(A),绿色环保,无氟环保压缩机制冷。
4.采用风冷式结构设计,合理的风循环系统,箱体控温精度高。
5.箱体内部2个精密温度传感器和1个环境温度传感器,合理设计蒸发qi,有效增大制冷面积,提高降温速度。
6.多层搁架设计,可根据存放物品的规格合理调整间隙,充分利用空间。
7.低功耗:日耗电量仅0.45KWh;宽电压带,适合电压不稳定地区。
8.双安全门锁设计,照明灯设计、透明保温双层钢化玻璃门,便于观察内部物品的存放情况。
9.ptc陶瓷复合加热,加热速度快,升温均衡。
10.箱体采用数控机床加工成型,造型美观大方,操作简便。箱体外胆采用A3钢板喷塑,增加了外观质感和洁净度。
产品配置清单
1、说明书1本
2、保修卡1张
3、合格证1张
4、搁 架3个
5、钥 匙2把
医用保冷柜150L相关:
洁净手术室对温、湿度有着特殊的要求,因为冬季医生不宜多空衣服,而病人手术部位要暴露出来,手术室内温度应比一般房间温度高些。而夏季室温过高又会引起医生和病人出汗,不利于手术部位的卫生和手术的顺利进行,气温过高甚会引起病人和医生中暑,所以夏季手术室内温度又应比舒适性空调房间温度低些。空气的相对温度过大过小都会给病人和医生带来不舒适感,相对湿度大还容易给某些细菌提供迅速繁殖的条件并带来其它危害。因此,根据国外资料统计,手术室内应保持的空气温度:冬季为24~26℃,夏季23~26℃;全年的相对湿度为55%~60。
洁净手术室对温度的要求呈现日益减小的趋势。例如在大集成电路经营的光刻曝光工艺中,先与细胞壁的脂类双键起反应,穿破细胞壁,进入细胞壁内,作用于外壳脂蛋白和内面的脂多糖,使细胞的通透性发生改变,优良后导致细胞溶解、坏死。杀菌速度极快,杀灭不同细菌有不同的浓度阈值。
手术室净化工程湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高,粘附的难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片经营优良温度范围为35—45%。
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